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        化合物Compound 3444(鍍錫中間體)

        時間 2024-03-13 
        • 化合物Compound 3444(鍍錫中間體)
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        • 化合物Compound 3444(鍍錫中間體)

        用途:電鍍用中間體,硫酸型光亮鍍錫低區走位劑。

        包裝:25kg/桶

        售前客服:李小姐謝先生謝先生

        售后客服:李小姐

        技術客服:謝先生

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        詳細參數

        化合物Compound 3444(鍍錫中間體)

        Compound 3444是Solderex TB硫酸鹽型光亮酸錫的關鍵中間體。Solderex TB工藝是極光亮硫酸鹽型的鍍錫工藝,鍍層的延展性、可焊性極佳,適用于掛鍍,滾鍍和高速鍍工藝。對于鉛錫PC抗蝕鍍層,它是一種極好的無鉛替代工藝。與其它酸錫工藝相比,Solderex TB適用的范圍更寬,無論開缸還是補加,所用的光劑都很少,這使得工藝成本降低,鍍液穩定。通過變換操作參數,此工藝適用于常規和高速操作,鍍層極佳的可焊性已被ASTM B678-86試驗所證明。
        Compound 3444 is a key intermediate of Solderex TB sulfate based bright tin oxide. The Solderex TB process is an aurora bright sulfate type tin plating process, with excellent coating ductility and weldability, suitable for hanging plating, rolling plating, and high-speed plating processes. For lead-tin PC corrosion-resistant coatings, it is an excellent lead-free alternative process. Compared with other tin plating processes, Solderex TB has a wider range of applications, with very few light agents used for both cylinder opening and replenishment, which reduces process costs and stabilizes the plating solution. By changing the operating parameters, this process is suitable for both conventional and high-speed operations, and the excellent weldability of the coating has been proven by ASTM B678-86 tests.
         
        產品參數:
        物化性質:淺黃色至橙紅色透明液體,PH值2.0~3.5,比重1-1.05g/cm3。
        有效物質濃度:27%~30%
        包裝方式:25kg/桶、200kg/桶;亦可按照客戶要求包裝。
        有效期:存放于陰涼干燥處,有效期2年。
         
        用途:
        電鍍用中間體,硫酸型光亮鍍錫低區走位劑。






        化合物Compound 3444(鍍錫中間體)
        核心摘要:
        Compound 3444是一種高性能、環保型的專用電鍍錫中間體,主要應用于電子電鍍、半導體封裝、五金件裝飾性鍍錫等領域。它以其優異的鍍層性能、穩定的工藝窗口和良好的環保特性,成為現代精密鍍錫工藝中的關鍵添加劑。
         
        一、基本信息
        通用名稱:Compound 3444(行業內通用代號,不同供應商可能另有商品名)
        化學名稱:(通常為商業秘密,公開資料中常以“有機磺酸鹽類衍生物”、“烯烴磺酸錫絡合物”或“專用有機添加劑”代稱)
        產品類型:電鍍錫工藝添加劑(中間體、光亮劑載體/主光劑)
        外觀:通常為無色至淡黃色透明液體
        溶解性:易溶于水及常用酸性鍍錫電解液
        pH值:視具體配方而定,通常為酸性
        穩定性:在避光、陰涼條件下密封儲存穩定性良好。
         
        二、主要功能與作用機理
        Compound 3444在酸性硫酸鹽或甲基磺酸鹽鍍錫體系中扮演著核心角色,其主要功能包括:
        1.晶粒細化與鍍層平整:能有效吸附在陰極表面,提高陰極極化,使錫的沉積晶核增多、晶粒尺寸顯著細化,從而獲得致密、平整、光滑的鍍層。
        2.提升光亮范圍:作為主光亮劑或載體,與輔助光亮劑協同作用,能在較寬的電流密度范圍內獲得全光亮的鍍錫層,外觀優異。
        3.改善分散能力與深鍍能力:優化電流分布,使復雜工件(如凹槽、深孔、引腳)表面的鍍層厚度更均勻,減少“盲區”。
        4.降低鍍層內應力:有助于形成低內應力的鍍層,提高鍍層的延展性和附著力,減少鍍層起皮、裂紋等現象。
        5.抑制枝晶生長與純錫須:對于電子電鍍至關重要,能有效抑制純錫鍍層在長時間存放或使用后生長出導電性錫須,避免電路短路風險。
         
        三、應用領域
        Compound 3444主要服務于對鍍層質量和可靠性要求高的行業:
        1.電子元器件電鍍:半導體引線框架、連接器、接插件、PCB板邊連接器(金手指底層打底錫)等。
        2.半導體封裝:芯片貼裝材料、錫球底部金屬化層等。
        3.高端五金裝飾:需要鏡面光亮效果的工藝品、餐具、衛浴配件等(替代部分鉻鍍層)。
        4.功能性鍍層:作為燒結前的預處理層或合金鍍層的組成部分。

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